深度學習於光學微影之應用
隨著CMOS半導體製程技術不斷推升,先進製程的製程成本--特別是光罩製作也不斷加深,過去應用於半導體後段製程、客製化IC、繞射光學元件的光學微影製程也需要解析度增益技術來降低製程成本,因此實驗室利用深度學習CNN、FCN模組建立光學微影模型,以應用於光罩修正,發展平行運算的光學鄰近修正術、預期用來製造超穎透鏡與矽光子元件,致力於加速先進光學元件的商品化。
超穎透鏡
超穎透鏡具有超薄設計、光學性能優越、多功能性、可客製性等特性,在商業應用上有許多優勢:例如,超穎透鏡相比傳統透鏡更加輕薄,適用於需要輕量設計的商業設備,如智慧型手機、平板電腦和相機鏡頭。
總的來說,超穎透鏡在商業應用中具有廣泛的潛力,可以提供更輕薄、高效能和多功能的光學解決方案,有助於推動各種商業領域的創新和進步。
- 超穎透鏡的設計可以精確調整,以實現卓越的光學性能,如更高的分辨率、更低的像差和更廣的波長範圍,適用於成像、感測 和雷射等領域。
- 超穎透鏡可以透過調整其設計參數來實現多種光學功能,如聚焦、散射和波前調製,這使其在商業應用中具有廣泛的用途,如雷射成像、VR/AR設備和醫療成像。
- 超穎透鏡可以使用先進的製造技術製造,例如光學微影和電子束微影,以實現高度精密的光學元件,適用於高端商業應用,如半導體製造和雷射切割。
- 超穎透鏡的設計可根據不同應用的要求進行客製化,從而提供更多商業機會。
總的來說,超穎透鏡在商業應用中具有廣泛的潛力,可以提供更輕薄、高效能和多功能的光學解決方案,有助於推動各種商業領域的創新和進步。